2015年4月16日 可以把研抛过程的轨迹曲线分 为两类: 工件上一定点相对于研磨盘的运动轨迹 2 轨迹分析 平面研抛轨迹曲线直接影响研抛的质量与效 第 4 期 吴宏基等: 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 453 (# 1 ) , 以及研磨盘上一定点相对于工件的运动轨 迹 (# 2 ...推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考 UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术
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了解更多2017年9月7日 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术
了解更多行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假 2018年5月12日 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明:偏摆幅度和偏 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究
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了解更多2015年1月13日 第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 ...研磨工艺_百度百科 2021年1月26日 直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动),主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。螺旋形研磨运动轨迹,能获得较低的表面粗糙度和较高的平面度,主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。平面研磨的运动轨迹及原理
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了解更多2013年3月21日 尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, ... 闫雯, 黄玉美, 高峰, 穆卫谊. 变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验[J]. 机械科学与技术, 2014, 33(10): 1500-1504. doi: 10.13433/j.cnki.1003-8728.2014.1012 引用本文:基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及两者的关系,以基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 百度文库
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了解更多手工研磨平面的运动轨迹形式,常用的有螺旋线式和8球磨机的工作原理及机内运动轨迹分析知乎,当研磨体以抛物线轨迹降落后,到达降落终点,此瞬时的研磨体中心点称为降落点,各层研磨体降落点的连线称为降落点轨迹,如下图中的CD 线。以上便是 ...2017年5月6日 第二章 平面研磨轨迹分析与设计 2.1平面研磨的运动条件及工作原理 2.1.1研磨运动条件 研磨是利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的过程 。研磨工件表面的尺寸精度、形位精度、研磨工具的寿命及研磨效率等,在很大程度上取决于研磨运动。平面双面研磨机构机械CAD图纸设计.doc - 原创力文档
了解更多2017年9月7日 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、X-Y联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。2019年3月17日 机电机械68018年11月0双面研磨运动轨迹模拟与分析郭晓峰范飞戚振华王献伟洛阳金诺机械工程有限公司,河南洛阳471003摘要:本文建立行星式双面研磨机行星轮运动轨迹的数学模型,利用VB软件对研磨轨迹进行了研究,分析不同研磨盘转速、不同速比下的相对运动轨迹状态及对研磨质量的影响。通过 ...双面研磨运动轨迹模拟与分析 - 道客巴巴
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